臺積衝先進製程 供應鏈沾光

臺積衝先進製程 供應鏈沾光

臺積電3奈米相關供應鏈

臺積電3奈米先進製程在主要客戶加持下,明年接單及出貨樂觀,臺積3奈米制程相關供應鏈明年營運也將受惠,其中包括家登極紫外光光罩盒、鑽石碟中砂、半導體靶材光洋科、晶圓真空吸盤的意德士及濾能等,2024年營運都將可望受惠拉擡。

首款搭載臺積電3奈米A17 Pro晶片的iPhone 15 Pro與Pro Max機種大熱賣,市場反應讓國際晶片廠對3奈米信心大增,業界傳出,聯發科、高通、輝達、超微四大客戶爭相導入高階製程,預估2024年下半年3奈米家族(含N3E)月產能,可望衝高至10萬片。

市場積極導入臺積電3奈米制程的消息傳出後,對於臺積電3奈米供應鏈也受到市場矚目及看好明年營運可望受到推升。

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其中家登在極紫外光(EUV)光罩盒市佔率達約7成,EUV微影技術已成先進製程標配,業內分析,臺積電從7+製程開始導入EUV技術,跨入新一製程世代,每片晶圓所採用的EUV光罩層數也愈來愈多,看好家登將持續受惠。

在半導體靶材部分,過去臺積電均使用國際大廠產品,但在積極推動設備及耗材國產化之後,光洋科自臺積電先進製程7奈米開始也打入供應鏈中,並取代美、日大廠,成爲臺積3奈米靶材供應商。光洋科在半導體靶材去年營收比重達4%,今年估達10%,2026年目標再翻倍至20%。

意德士則是前段製程零組件供應商,主要提供真空吸盤曝光載臺,搭載在EUV設備上,由於現今隨着製程推進至3奈米,晶圓薄度愈來愈薄,真空吸盤扮演製程當中提高良率的關鍵要角,意德士明年營運也可望優於今年表現。

濾能主力產品抽取式濾網及提供微污染(AMC, Airborne Molecular Contamination)防治服務,透過濾網的材料研發創新,防止空氣中看不見的氣體分子飄落,是成本控制及良率提升的關鍵耗材,在國內先進製程的市佔率已超過5成,明年營運同樣受惠。

中砂則是生產再生晶圓及鑽石碟產品,其中高規格鑽石碟新品,獲得大客戶連續性及擴大采用,在3奈米市佔率達到7成以上,法人預期,隨大客戶3奈米產能逐步達到滿載,明年起業績動能可望較今年顯著增強。

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